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半导体测试设备市场现状:国产化仍不足10%

发布时间:2020-05-28 18:12:19 所属栏目:点评 来源:互联网
导读:副标题#e# 此前国家曾对于半导体设备国产化提出了明确要求:在 2020 年之前,90~32nm 工艺设备国产化率达到 50%,实现 90nm 光刻机国产化,封测关键设备国产化率达到 50%。在 2025 年之前,20~14nm 工艺设备国产化率达到 30%,实现浸没式光刻机国产化。到

(编辑:云计算网_泰州站长网)

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